淺倉 聡美 2017年 芸術学部美術学科洋画専攻卒
東京国立博物館 表慶館にて初となるインクルーシブランウェイに明日櫻が出展
森 聡美さん(卒業時氏名:浅倉 聡美)がデザインをした 、誰もが楽しめる明日櫻のユニバーサルデザイン着物を着てランウェイを行います。
■会期2026年8月26日(水)
■時間ファッション・アート展 10:00〜14:30(入場無料 別途東京国立博物館入館料が必要)ファッションショー 15:00〜16:30(完全予約制)
■会場東京国立博物館 表慶館
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